看好工業物聯網(IIoT),閘道器(Gateway)、邊緣運算(Edge Computing)等全球應用市場在智慧化設備需求上的成長力道,鼎國際發表全球首款DDR4 2666寬溫工控儲存記憶體,以2666MT/s的超高速運算,搭載工業級寬溫(-40oC~85oC),承接來自全球市場的龐大需求。

此外,面對日益嚴重的硫化污染,自今年6月起,宜鼎宣布將於DDR4標準品規格中全面導入抗硫化技術,相較於目前業界普遍以客製方式提供抗硫加值服務,宜鼎此舉除正面推動全球產業升級外,也為全球工控儲存產業再度訂下難以跨越的「進階級工控」門檻標準。

隨著工業物聯網與設備智慧化擴大應用,為了強調即時效率,未來在元件傳遞數據的瞬間,就必須開始進行邊緣運算,進而大幅縮減資料流量,減低雲端運算負荷。宜鼎新發表的全球首款超高速寬溫DDR4 SODIMM,具備2666MT/s高速運算與工業級寬溫規格雙重產品優勢,無懼溫差變化與硫化汙染等多重環境限制,特別符合閘道器、邊緣運算伺服器等智慧化設備的垂直市場需求,目前已成功獲得國際伺服器品牌大廠訂單,並持續強攻工業物聯網應用。

工業環境中的硫化物質將使DRAM模組引發化學作用而產生硫化銀,並降低傳導導致模組無法正常運作。過去工控儲存的抗硫化技術常被視為客製化的加值服務之一,然而宜鼎團隊發現,環境中的硫化威脅其實無所不在,不僅石化、礦採、能源發展等特定產業需要導入抗硫化設備,即使一般工廠中也經常潛藏著硫化物威脅,舉凡大型機械中經常使用的機油、橡膠墊圈、輪帶、金屬銅釦等都是環境中的硫化來源之一,且其硫化影響常容易被眾人忽略。因此,自今年6月起,宜鼎主動於全系列DDR4產品中無償導入抗硫化技術,使其成為標準品規格之一。