D類音訊放大器是氮化鎵(GaN)增強型HEMT元件最有前途但同時探索較少的應用領域之一。本文將深入探討在D類音響中,GaN功率元件在性能、效率和音質方面,如何優於目前可用的矽基MOSFET。
就要求和應用而言,現代功率電子正在迅速超越矽元件的最大性能能力。隨著寬能隙(WBG)材料製造的進步和更多商用WBG元件(如GaN)的面世,設計人員正在擴大應用範圍,以利用其優於傳統矽基元件的性能優勢。
作為一種寬能隙材料,GaN具有較大的能隙,也稱為能隙。與矽相比,GaN的電子需要更多的能量才能從價帶躍遷到更高能級的導帶。由於能隙的寬度與迫使半導體擊穿所需的電場強度成正比,因此GaN元件也可以在更高的電壓下工作。GaN由於其寬能隙、大臨界電場、高電子遷移率和優異的導熱性,在許多功率電子應用中受到了極大的關注。
GaN HEMT製造工藝實現了更高的遷移率。在AlGaN/GaN異質外延結構上形成的橫向二維電子氣(2DEG)通道提供了高電荷密度和遷移率。由於AlGaN和GaN導帶之間的結點不連續,2DEG進一步集中並增加了遷移率。
在GaN增強型HEMT中,p-GaN區域下方的AlGaN層厚度經過了優化,以建立常關的操作。與普通Si MOSFET相比,E-HEMT GaN元件具有更低的閘極電荷(QG)和更低的導通電阻(RDS(ON))。這導致了更低的開關電荷要求和更快的開關轉換。
與Si和SiC MOSFET不同,GaN E-HEMT沒有體二極體(Body diode),也沒有反向恢復損耗。在死區時間(Dead-Time)內,當閘極關閉時,2DEG層表現得像一個二極體;這意味著GaN 2DEG可以在第三象限導電(沿相反方向傳導電流),並且不需要反向並聯二極體。
GaN通過抑制反向恢復損耗實現在更高開關頻率下的高效運行。GaN E-HEMT的另一個顯著特性(我們稍後將詳細介紹)是其更快的開啟和關閉開關轉換,從而降低開關損耗。
GaN的關鍵性能優勢是它能夠承受更高的工作溫度、更高的阻斷電壓和更快的開關速度,並且其損耗可與最新的Si功率電子元件相媲美。應該強調的是,GaN的生產和加工最近取得了顯著進步,並且只要存在對Si的高性能替代品的需求,未來也會如此。
最直接的類比音訊放大器由在線性模式下工作的電晶體組成,提供的輸出電壓是輸入電壓的比例複製。還可以包括具有高增益的反饋回路,通過抑制前向通道中的非線性引起的失真,以及通過提高電源抑制來降低電源雜訊來增強性能。
音訊放大器可分為四個主要類別:A、B、AB(所有線性放大器)和D(PWM放大器)。A類音訊放大器在失真方面提供最出色的性能,但由於效率低,會產生大量熱量。B類和混合型AB類放大器在效率方面都改善了A類,但代價是聲音保真度和失真度較低。D類拓撲結構,也稱為脈衝寬度調製(PWM)放大器,理論效率為100%,可達到90%以上。
與其他放大器類別相比,D類放大器的基本優勢是顯著降低功耗,這直接轉化為更少的熱量、更緊湊的電路設計,以及更長的可攜式設備電池壽命。輸入信號被轉換為PWM信號,D類放大器使用該信號來驅動推挽輸出級。
D類功率放大器沒有像AB類放大器那樣採用傳統的線性雙極電晶體,而是在其輸出級使用高速FET開關。儘管D類音訊放大器的最初概念可以追溯到50年代,但由於缺乏理想的半導體開關,其性能受到了影響。GaN技術的出現,讓基於PWM的D類放大器更接近理想放大器。
對於更大的額定功率,D類放大器需要更低的RDS(ON)和更快、更乾淨的開關轉換,這通常是Si MOSFET的反面權衡。這就是為什麼GaN對於D類放大器非常有利。
如THD(總諧波失真)、DF(阻尼係數)和IMD(互調失真)所示,所用功率電晶體的特性會影響音訊放大器再現聲音的效果。GaN元件近乎理想的開關性能允許非常短的死區時間,以產生較低的開迴路失真,從而降低THD和總損耗。這是通過它們較低的傳播延遲、更快的轉換速率(由於它們較低的閘極電容)和零QRR實現的。這提高了D類音訊放大器的音質並降低了總損耗。
圖1顯示了以下波形之間的比較:
理想的開關波形(綠色):一個完美的方波信號
MOSFET開關波形(紅色):Si MOSFET產生的開關波形
eGaN開關波形(藍色):EPC eGaN開關元件產生的開關波形。
我們很快就會注意到,基於GaN的元件產生的波形是最接近理想開關信號的。
圖1:eGaN開關波形非常接近理想波形。 (來源:EPC)
GaN功率電晶體最近因其高功率密度和開關頻率能力,在D類音訊放大器中得到普及。在D類放大器中使用基於GaN的元件的一些優勢包括:
通過比較Si和GaN的功率開關的開關波形,我們可以很快意識到GaN在D類音訊放大器中發揮了怎樣的作用。圖2比較了矽MOSFET和英飛淩CoolGaN增強型HEMT的開關波形。可以看出,CoolGaN波形更乾淨、更快。
圖2:Si MOSFET和CoolGaN e-mode HEMT波形。 (來源:英飛凌)
本文刊登於EDN China網站
(參考原文:Enhancing the Quality of Sound with Gallium Nitride (GaN),By Stefano Lovati)
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